Metoda pročišćavanja visoke temperature za izdvajanje grafita

Talište grafita je 3850°C±50°C, što je jedna od supstanci sa najviše tačke ključanja u prirodi, što je mnogo više od tačke vrenje silikata nečistoće. Koristeći njihovu razliku taljenja i tačke ključanja, grafit se stavlja u grafitiziranu grafitu crucible, u određenoj atmosferi, zagrevan na 2700 °C specifičnim instrumentima i opremom, nečistoće se mogu ispariti i pobjeći od grafita, a učinak pročišćavanja se može postići. . Ova tehnologija može pročistiti grafit na više od 99,99%.

Visokotemeraturno pročišćavanje grafita, kvalitet proizvoda je visok, sadržaj ugljika može dostići više od 99,995%, ovo je najveća osobina metode visoke temperature, ali istovremeno troši puno energije i zahtijeva izuzetno visoku opremu, koja zahtijeva poseban dizajn i velika ulaganja. Sirovine također imaju određene zahtjeve. Ovom metodom se može pročistiti samo grafit koji se koristi u visokotehnološkim poljima kao što su nacionalna odbrana, aerosvemir i nuklearna industrija.